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半导体 臭氧发生器
RCA清洗，IMEC清洗法，单晶片清洗，稀释化学法
APCVD和CVD（化学气相沉积） 晶圆/IMEC清洗/RCA清洗/SOM
一、概述
光伏级臭氧发生器专为光伏、面板行业应用而开发设计，系统采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术，选用高品质、超纯耐臭氧材料以及1+1组合的模块化设计，实现为半导体、面板等行业应用提供大流量超洁净、高浓度臭氧水。
二、特点
♦ 臭氧水输出稳定，臭氧水流量10-60L/min可控、可调；
♦ 应用超纯高效混合与控制技术，臭氧水溶浓度实现10-60ppm；
♦ 臭氧浓度输出速度快，气体输出压力高， 3.0bar；
♦ 采用超纯发生技术与超纯材料及工艺制造，避免金属污染及析出；
♦ 设备具有互锁、联动保护功能，发生异常及时进行有效警示与保护。
♦ 设备可与外部进行通讯，实现数据传送以及进行远程控制。
